納米真空鍍膜采用真空氣相沉積技術，在真空狀態下，將高分子材料在高溫下升華。繼續加熱裂解生成單體活性小分子，在常溫條件下沉積在被鍍物品表面上形成防護薄膜。

優點是不會出現液態聚集成橋連狀態，也不需要加熱和固化、流平等輔助工藝過程。膜層厚度在1-100微米之間控制，可穿透狹小縫隙、針孔，與普通的三防相比，具有的表面敷形性能，磨蹭均勻，無針孔，從而阻隔抵制污染物，有機無機溶劑和強酸堿等腐蝕性氣體。

納米高分子鍍膜因其材料優異的性能，特別適用于對防潮、防水、防酸、放堿、防鹽、耐高低溫和等級嚴苛的產品及應用場所，如航空航天領域、生物醫療器械、軍工產品、磁性材料、光學器件、電子工業等。